製造設備

50～4000㍑グラスライニング反応設備
50～4000㍑ステンレス反応設備
500～1000㍑高圧反応装置（ｸﾞﾗｽ､SUS､ﾊｽﾃﾛｲ）
500～1000㍑高温反応装置（250℃)
500㍑低温反応装置（-90℃､ハステロイ）
100～2000㍑各種蒸留設備（グラス､SUS)
1～100㍑QVF､グラス､SUS試作反応設備
100～2000㍑コニカル真空乾燥機（グラス､SUS）
1500㍑ろ過乾燥機（ハステロイ）
各種遠心分離機（SUS､テフロンコーティング)
試験機器（GC､HPLC､NMR､ｲｵﾝｸﾛﾏﾄ､原子吸光他)

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2000L反応設備（GL & SUS）

　

設備基数概要

設備概要	容量	基数	材質
反応釜	100 ～ 1,000L	-	SUS, GL, ハステロイ
反応釜	1,500 ～ 3,000L	-	SUS, GL, ハステロイ
高圧反応装置	500 ～ 1,000L	-	SUS, GL, ハステロイ
高温反応装置（250℃）	500L	-	SUS
低温反応装置（-90℃）	500L	-	ハステロイ
合計	150,000L
遠心分離機		-	SUS, テフロン
ろ過乾燥機	1,500L	-	ハステロイ
乾燥機	50 ～ 500L	-	SUS, GL
乾燥機	1,500L	-	SUS, GL
蒸留設備	50 ～ 2,000L	-	SUS, GL

　

　

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100L試作機

（SUS & GL, ｸﾘﾝﾙｰﾑ内）

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500Lﾏﾙﾁ反応機

（GL)

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2000L再結晶反応機

（GL)

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分析機器

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遠心機

（SUS, ｸﾘﾝﾙｰﾑ内）

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自動遠心機

（SUS, ｸﾘﾝﾙｰﾑ内）

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1500L乾燥機

（SUS & GL）

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1500Lろ過乾燥機

（ﾊｽﾃﾛｲ, ｸﾘﾝﾙｰﾑ内）

　

　

　

　

　

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